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等離子清洗機(jī)
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等離子清洗機(jī)常見頻率的區(qū)別與應(yīng)用

隨著等離子體科學(xué)基礎(chǔ)研究的需要以及對(duì)可靠等離子體處理系統(tǒng)日益增長(zhǎng)的工業(yè)需求,等離子體源從19世紀(jì)的氣體放電裝置逐漸演變?yōu)楝F(xiàn)代先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備。通過直流、射頻和微波電場(chǎng)電離氣體的方法均可用來制造等離子體源。下面為大家介紹等離子清洗機(jī)常見的幾種激發(fā)等離子體的頻率:

常用的等離子清洗機(jī)激發(fā)頻率有三種:激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體,13.56MHz的等離子體為射頻等離子體,2.45GHz的等離子體為微波等離子體。 不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣,超聲等離子體的自偏壓為1000V左右,射頻等離子體的自偏壓為250V左右,微波等離子體的自偏壓很低,只有幾十伏,而且三種等離子體的機(jī)制不同。

超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng),射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng),微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對(duì)被清潔表面產(chǎn)生的影響最大,因而實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果最佳,典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗;氬氣本身是惰性氣體,等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng),而是通過離子轟擊使表面清潔。

典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活潑,容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物,從而去除表面的污染物。 以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,也叫做濺射腐蝕(SPE)或離子銑(IM),其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性,還有一種等離子體清洗是表面反應(yīng)機(jī)制中物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起重要作用,即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕,兩種清洗可以互相促進(jìn),離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài),容易吸收反應(yīng)劑,離子碰撞使被清洗物加熱,使之更容易產(chǎn)生反應(yīng);選用40KHZ超聲等離子再加入適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體,可以有效去除膠質(zhì)殘?jiān)?、金屬毛刺等等?.45G的微波等離子常用于科研方面及實(shí)驗(yàn)室。

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